主 页 冷弧等离子射流源 射频CCP 射频ICP 微波ECR等离子体 微波表面波等离子炬 环缝微波等离子试验装置 微波表面波等离子镀膜 等离子体配套设备 文档下载 联系方式   微波ECR（电子回旋共振）等离子体发生装置的工作原理是：由微波管产生的微波（2450 MHz）经波导系统和石英窗平行于磁场注入微波ECR共振腔；微波在ECR共振层加热电子，电离 充入真空室中的工作气体产生高密度等离子体。等离子体沿着发散场磁力线扩散至下游处理 室，用于在基片表面沉积薄膜、刻蚀和表面处理，或用于产生原子氧束或离子束。 型号 微波源 微波传输系统 磁体系统 共振腔尺寸 ECR－1500 等离子体源 1500W高稳定 程控微波源 BJ-22环行器、水阻、定向耦 合器、三销钉调配器和直波导 稳流电源 和水冷磁体 ф160×210 ECR－800 等离子体源 800W高稳定 程控微波源 BJ-26环行器、水阻、定向耦 合器、三销钉调配器和直波导 稳流电源 和水冷磁体 ф136×180 ECR－200 等离子体源 200W高稳定 程控微波源 同轴微波电缆 永磁体 ф40×55 型号 配用的等 离子体源 沉积室尺寸 基片台 抽充气系统 电控柜 直径 加热温度 ECR PECVD -1500 ECR－1500 ф450×500 200 450℃ 1300L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 ECR PECVD -800 ECR－800 ф350×400 150 450℃ 600L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 ECR PECVD -200 ECR－200 ф200×300 50 450℃ 110L/s分子 泵两路流量计 1400 标准机柜 型号 配用的等离子体源 刻蚀室尺寸 基片台 抽充气系统 电控柜 直径 冷却 ECR RIE -1500 ECR-1500W ф450×300 200 水冷 1300L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 ECR RIE -800 ECR-800W ф350×300 150 水冷 600L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 ECR RIE -200 ECR-200W ф200×300 50 水冷 110L/s分子 泵两路流量计 1600 标准机柜 型号 配用的等 离子体源 椭圆钼靶 距靶10cm处 辐照截面* 抽充气系统 电控柜 ECR AB -1500 ECR-1500 150×180 水冷 ф150 1300L/s分子泵 100SCCM流量计 1800 标准机柜 ECR AB -800 ECR-800 120×150 水冷 ф120 600L/s分子泵 50SCCM流量计 1800 标准机柜 ECR AB -200 ECR-200 50×70 水冷 ф50 110L/s分子泵 20SCCM流量计 1600 标准机柜 型 号 配用的等 离子体源 三电极加 速栅尺寸 离子束参数 电控柜 能量（V） 流强（mA） ECR IB－1500 ECR－1500 ф200 100－2000 100－1000 1800标准机柜 ECR IB－800 ECR－800 ф150 100－2000 60－600 1800标准机柜 ECR IB－200 ECR－200 ф60 100－2000 10－100 1600标准机柜 2kV－50kV 1－100   1.任兆杏 盛艳亚 史义才,“微波ECR等离子体辅助物理汽相沉积技术”,19(8),(19 90) P497. 2.任兆杏 陈俊芳等，“ECR－PECVD制备Si3N4薄膜的特性及其应用的研究”，电子 学报，24(2)（1996）； 3.张劲松 任兆杏等“平面光波导膜的ECR-PECVD制备及特性研究”，真空科学与技 术，20卷，第3期，2000年； 4.张劲松 任兆杏等“ECR-PECVD制备SiO2薄膜中衬底射频偏压的作用”，核聚变与 等离子体物理，第21卷，第1期，2001年； 5.吕庆敖 任兆杏等“用于电离层环境模拟器的ECR等离子体源”，真空科学与技术 第21卷 第三期 2001年5月； 6.REN Zhao-xing(任兆杏) SHEN Ke-ming(沈克明) LU Qing-ao(吕庆敖) Atomic-O xygen Beam Source with Compact ECR Plasma, Plasma Science & Technology, Vol.4, No.5(2002)     华南师范微波ECR 天津理工大学微波ECR装置 离子源-微波ECR 西北工业大学氧原子束源装置