主 页 冷弧等离子射流源 射频CCP 射频ICP 微波ECR等离子体 微波表面波等离子炬 环缝微波等离子试验装置 微波表面波等离子镀膜 等离子体配套设备 文档下载 联系方式   射频ICP（感性耦合等离子体）发生装置的工作原理是：由射频源产生的射频功率（13. 56MHz）经射频电缆传输，至电感线圈耦合到石英或陶瓷腔中；感应的射频电场加热电子，电 离充入真空室中的工作气体产生高密度等离子体。等离子体扩散至下游处理室，用于在基片 表面沉积薄膜或刻蚀，或用于产生离子束等。      1.射频ICP源系列产品   型 号 射频源 感应腔尺寸 感应线圈 ICP TCP ICP－1500等离子体源 1500W射频源 ф200×300 ф200×100 水冷感应线圈 ICP－800等离子体源 800W射频源 ф150×220 ф150×80 水冷感应线圈 ICP－300等离子体源 300W射频源 ф60×90 ф60×50 水冷感应线圈      2.射频IC PECVD系列产品   型号 配用的等 离子体源 沉积室尺寸 基片台 抽充气系统 电控柜 直径 加热温度 CCPECVD -1500 ICP－1500 ф450×300 200 450℃ 1300L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 CCPECVD -1500 ICP－800 ф350×400 150 450℃ 600L/s分子 泵两路流量计 1400 标准机柜 CCPECVD -1500 ICP－200 ф200×300 50 450℃ 110L/s分子 泵两路流量计 1400 标准机柜      3.射频ICP刻蚀机系列产品   型号 射频源功率 刻蚀室尺寸 基片台 抽充气系统 电控柜 直径 冷却 ICP RIE -1500 ICP－1500W ф450×300 200 水冷 1300L/s分子 泵两路流量计 1800 标准机柜 ICP RIE -800 ICP－800W ф350×300 150 水冷 600L/s分子 泵两路流量计 1400 标准机柜 ICP RIE -300 ICP－200W ф200×300 50 水冷 110L/s分子 泵两路流量计 1400 标准机柜      4.射频ICP表面处理机有关参数与射频ICP刻蚀机类同        5.射频ICP离子束源－配加减速三电极   型 号 配用的等 离子体源 三电极加 速栅尺寸 感应腔尺寸 感应线圈 ICP TCP ICP IB－1500 ICP－1500 ф200 100－2000 100－1000 1800标准机柜 ICP IB－800 ICP－800 ф150 100－2000 60－600 1400标准机柜 ICP IB－300 ICP－300 ф60 100－2000 10－100 1400标准机柜 2kV－50kV 1－100 1.许沭华 任兆杏 沈克明 翁坚，射频ＩＣＰ离子源设计研究，真空科学与技术，第 22卷 第4期 2002年7月。 2.XU Shu-hua（许沭华）,Ren Zhao-xing（任兆杏）,SHEN Ke-ming（沈克明）“Ex traction Characteristics of Radio Frequency ICP Ion Source”，Plasma Sc ience & Technology，Vol.4, No.4(2002)； 3.XU Shu-hua（许沭华）,Ren Zhao-xing（任兆杏）“Ions Bombardment in Thin Films and Surface Processing”，Plasma Science & Technology，Vol.5, No. 3(2003)； 4.离子束技术及其应用     华南师范大学射频ICP装置