主 页
冷弧等离子射流源
射频CCP
射频ICP
微波ECR等离子体
微波表面波等离子炬
环缝微波等离子试验装置
微波表面波等离子镀膜
等离子体配套设备
文档下载
联系方式
 
冷弧等离子射流源系列产品

  常用的等离子表面处理设备是工作在低气压范围,即用的是低气压等离子技术。由于低气压等离子技术需要使用真空设备,不但使实际操作不方便,而且使得应用成本也相应增加。近年来,由于常压等离子体技术取得了长足的发展,使得常压等离子体在工业中广泛应用成为可能。其中高频(数十kHz)冷弧空气等离子射流,由于高频(以下含脉冲)电源相对射频(RF)和微波电源更便宜,用很便宜的空气做气源,因此应用可以更广泛。
  冷弧空气等离子体可以应用来进行表面处理,包括清洗、喷涂、刻蚀、消毒和灭菌等;在汽车、家电、印刷、纺织、环保、电子、机械、航空和航天等工业领域中都具有广泛的应用。
如果使用氩气或氮气等做载气,添加反应气体,还可在常压下沉积薄膜。

 

1.      冷弧空气等离子射流源系列产品

 

型 号

高频电源功率
(W)

空气流量
(L/min)
射流类型 配 置
AP Jet-1000P 1000 ~60 铅笔型(直枪) 无手柄
有手柄

AP Jet-1000R

1000 ~60 圆环型(旋转枪) 无手柄
有手柄

 

2.      冷弧空气等离子射流表面处理装置系列产品


型 号 高频电源功率(W

空气流量

L/min

射流类型 配 置
APJ Treat-
1000P
1000 ~60

铅笔型

(直枪)

射流源固定于

标准1.4m机柜中

射流源固定于1.6m可排废气

机柜中的三维数控机架上*

APJ Treat-
1000R
1000 ~60

圆环型

(旋转枪)

射流源固定于

标准1.4m机柜中

射流源固定于1.6m可排废气

机柜中的三维数控机架上*

 

*三维数控机架技术参数:扫描面积:250х180mm2,扫描速度:最大300mm/s

 

 

 

3.      冷弧等离子射流镀膜装置系列产品


型 号 高频电源功率(W

流量计类型

L/min

射流类型 配 置
AP PECVD1000P 1000 浮子流量计×3

铅笔型

(直枪)

带喷口进气喷嘴
AP PECVD1000P 1000 浮子流量计×3

铅笔型

(直枪)

带喷口进气喷嘴,

射流源固定于标准1.4m机柜中

AP PECVD1000P 1000

浮子流量计×3

数字流量计×2

载气:50

反应气:1

铅笔型

(直枪)

带喷口进气喷嘴,

射流源固定于标准1.4m机柜中

带喷口进气喷嘴,

射流源固定于1.6m可排废气机柜中的三维数控机架上*

AP PECVD1000R 1000

浮子流量计×3

数字流量计×2

载气:50

反应气:1

圆环型

(旋转枪)

射流源固定于

标准1.4m机柜中

射流源固定于1.6m可排废气

机柜中的三维数控机架上*

 

*三维数控机架技术参数:扫描面积:250х180mm2,扫描速度:最大300mm/s

三维数控机架技术参数还可根据客户需要选配,价格另议。

 

 

 
 
 
手持圆环形旋转枪
 
 
手持铅笔型
 
 
数控运动台可常压镀膜
 
 
标准铅笔型
 
 
气动旋转圆环形
 
 
电动旋转圆环形